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martedì 14 novembre 2006

IMEC NEWSletter Ottobre 2006

Nell’ultima Newsletter pubblicata dal Centro Ricerche IMEC (Leuven, Belgio) lo scorso ottobre (n° 46, disponibile in inglese sul sito http://www.imec.be/, nella sezione dei downloads trovate il link alla “English newsletter for international cooperation”), compare un articolo sull’effetto positivo che un innovativo processo di testurizzazione al plasma avrebbe sul valore dell’efficienza delle celle a film sottile in silicio policristallino (pc-Si) realizzate con il processo di cristallizzazione indotta con alluminio (AIC) [e non è un tongue twister...].

Infatti, se l’utilizzo di questa tecnologia permette la realizzazione di celle a basso costo, in virtù della possibilità di utilizzare materiali economici per il substrato (come ad esempio allumina ceramica o vetro ceramica), in grado di reggere le altissime temperature a cui avviene la deposizione dei vapori chimici (si parla di oltre 1000 °C), ma che non garantiscono un’efficienza proprio esaltante, tra il 5.4 ed il 5.9% a seconda del tipo di substrato (è preferibile l’allumina), l’utilizzo della testurizzazione con un plasma ottenuto partendo da gas precursori come l’esafluoruro di zolfo (SF6) e il protossido di azoto (N2O) consente di ottenere un intrappolamento della luce più efficace sulla superficie frontale della cella e un conseguente balzo dell’efficienza di conversione della cella al 7%.


Tale valore risulta essere il più alto per le celle pc-Si basate su AIC che non utilizzano altre tecniche più problematiche di realizzazione della cella come quella basata sulla fusione del silicio (a t > 1400 °C).


Un’ottimizzazione del processo di testurizzazione, unita all’assottigliamento dello strato costituente l’elettrodo posteriore, sembrerebbero inoltre promettere un ulteriore accrescimento dell’efficienza della cella. Non resta che attendere…



Esperimenti eseguiti su una cella con un irraggiamento di 1000W/m2 riportano come risultato per il vetro una Vca di 539 mV, un FF pari al 69.2%, una densità di corrente di 15.8 mA/cm2, valore che va incrementato del 15% circa con l’utilizzo del plasma texturing.




IMEC is Europe's leading independent research center in the field of micro- and nanoelectronics, nanotechnology, enabling design methods and technologies for ICT systems.


«The IMEC mission: "To perform R&D, ahead of industrial needs by 3 to 10 years, in microelectronics, nanotechnology, design methods and technologies for ICT systems (acronimo per Information and Communications Technology)." »


1 commento:

Anonimo ha detto...

VEN VIA!!!!!

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